- 技術參數(shù)
Technical parameters
- 實驗案例
Experimental cases
- 應用提示
Application Tips
- 配件詳情
Accessory Details
測量膜厚范圍
15nm - 50um
光譜波長
400 nm- 1100 nm
氮化物
光刻膠
半導體(硅，單晶硅,多晶硅等)
半導體化合物( ALGaAs, InGaAs, CdTe, CIGS等)硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)
聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
金屬膜
特點
測量和數(shù)據(jù)分析同時進行， 可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜
包含了500多種材料的光學常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加，支持多重算法: Cauchy，Tauc-Lorentz， Cody- Lorentz，EMA等
體積較小,方便擺放和操作
可測量薄膜厚度,材料光學常數(shù)和表面粗糙度
使用電腦操作,界面中點擊，即可進行測量和分析
精度
”0. 01nm或0.01%
準確度
0.2%或1nm
穩(wěn)定性
”0. 02nm或0.02%
光斑尺寸
●標準3mm, 可以小至3um
要求樣品大小
15nm - 50um
光譜波長
400 nm- 1100 nm
主要測量透明或半透明薄膜厚度
氧化物氮化物
光刻膠
半導體(硅，單晶硅,多晶硅等)
半導體化合物( ALGaAs, InGaAs, CdTe, CIGS等)硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)
聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
金屬膜
特點
測量和數(shù)據(jù)分析同時進行， 可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜
包含了500多種材料的光學常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加，支持多重算法: Cauchy，Tauc-Lorentz， Cody- Lorentz，EMA等
體積較小,方便擺放和操作
可測量薄膜厚度,材料光學常數(shù)和表面粗糙度
使用電腦操作,界面中點擊，即可進行測量和分析
精度
”0. 01nm或0.01%
準確度
0.2%或1nm
穩(wěn)定性
”0. 02nm或0.02%
光斑尺寸
●標準3mm, 可以小至3um
要求樣品大小
●大于1mm
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